微細加工技術雜志介紹

《微細加工技術》是一本由信息產業(yè)部主管，中國電子科技集團公司第48研究所主辦的一本面向國內外公開發(fā)行的電子類期刊，該刊主要報道電子相關領域的研究成果與實踐。該刊已入選統計源期刊。 《微細加工技術》主要內容欄目有綜述、電子束技術、離子束技術、光子束技術、薄膜技術、微機械加工技術、納米技術。

《微細加工技術》主要發(fā)文機構有：中國科學院（發(fā)文量192篇），該機構主要研究主題為“光刻；電子束曝光；曝光機；電子束曝光機；掩模”；上海交通大學（發(fā)文量129篇），該機構主要研究主題為“微機電系統；電系統；機電系統；MEMS；刻蝕”；清華大學（發(fā)文量60篇），該機構主要研究主題為“微細；光刻；微細加工；離子束；聚焦離子束”。

《微細加工技術》主要發(fā)文主題有光刻、離子注入、電子束曝光、刻蝕、半導體、電路、微細、集成電路、微細加工、曝光機。其中又以”光刻（151篇）”居于榜首，發(fā)文量第二的是“離子注入”（105篇），發(fā)文量第三的是“電子束曝光”（79篇），發(fā)文主題最少的是“曝光機”，僅發(fā)文57篇。

微細加工技術影響力及榮譽

• 知網收錄(中)
• 維普收錄(中)
• 萬方收錄(中)
• EI 工程索引(美)
• 國家圖書館館藏
• 上海圖書館館藏
• Caj-cd規(guī)范獲獎期刊
• 北大圖書館收錄期刊

微細加工技術投稿注意事項

1、來稿要求：

本刊歡迎下列來稿：電子及相關學科領域的研究方面的論著，反映國內外電子學術動態(tài)的述評、論著、綜述、講座、學術爭鳴的文稿，以及有指導意義的電子書刊評價等。文稿應具科學性、先進性、新穎性和實用性，內容翔實，簡明扼要，重點突出，文字數據務求準確，層次清楚，標點符號準確，圖表規(guī)范，書寫規(guī)范。本刊不接受已公開發(fā)表的文章，嚴禁一稿兩投。對于有涉嫌學術不端行為的稿件，編輯部將一律退稿，來稿確保不涉及保密、署名無爭議等，文責自負。

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述評、專家論壇、指南解讀欄目來稿請附第一作者及通信作者的個人簡介及近照。個人簡介內容包括職稱、職務、學術兼職、主要研究領域、主要研究成果、所獲重大榮譽獎項等，字數以 100～300 字為宜。近照以 2 寸免冠彩色證件照為宜，格式為“.jpg”，像素不得低于 300 dpi。

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文題力求簡明、醒目，反映文稿主題，中文文題控制在 20 個漢字以內。題名中應避免使用非公知公用的縮略語、字符、代號以及結構式和公式。有英文摘要者同時給出英文文題，中英文文題含義應一致。

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文中所有圖表均需為作者自行制作而非引用他人文獻中的圖表。圖表力求簡明，設計應科學，避免與正文重復。凡能用少量文字說明的數據資料盡量不用圖表。正文與表中數據應認真核對，準確無誤，表內數據同一指標的有效位數應一致。