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美章網(wǎng) 資料文庫 航空發(fā)動機薄膜熱電偶的研制范文

航空發(fā)動機薄膜熱電偶的研制范文

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航空發(fā)動機薄膜熱電偶的研制

摘要:針對航空發(fā)動機渦輪葉片表面溫度測試的迫切需求,采用薄膜沉積工藝,能夠在Ni基高溫合金表面制備熱電性能較好的中溫K型(NiCr/NiSi,<600℃)、高溫R型(Pt—13%Rh/Pt,<900℃)、超高溫(ITON/Pt,<1100℃;InON/ITON,>1200℃)等薄膜熱電偶。薄膜熱電偶由NiCrAlY過渡層、熱生長Al2O3層、Al2O3絕緣層、功能層和Al2O3保護層構(gòu)成。通過靜態(tài)標(biāo)定結(jié)果分析,其塞貝克系數(shù)分別達到38.26,10.60,78.60,123.10μV/℃,在惡劣環(huán)境下具有良好的穩(wěn)定性和一致性,使用壽命均大于10h。

關(guān)鍵詞:薄膜熱電偶;熱電特性;靜態(tài)標(biāo)定;塞貝克系數(shù)

引言

航空發(fā)動機作為現(xiàn)代航空飛行器的動力核心部件,正不斷向大推力、大推重比的方向發(fā)展,導(dǎo)致渦輪葉片表面、燃燒室內(nèi)壁等部位的溫度越來越高。由于缺乏對渦輪葉片表面、燃燒室內(nèi)壁溫度分布的了解[1],渦輪葉片的冷卻效率及葉片局部熱點等問題一直存在,成為影響發(fā)動機性能和壽命提升的關(guān)鍵技術(shù)瓶頸。因此,實時、準(zhǔn)確測量渦輪葉片表面溫度的分布狀態(tài),對于航空發(fā)動機的設(shè)計和驗證實驗具有重大意義[2]。薄膜熱電偶具有不破壞測試部件結(jié)構(gòu)、響應(yīng)時間短、熱容量小、結(jié)構(gòu)尺寸薄、對測試環(huán)境影響小、耐壓、耐熱、耐熱沖擊和抗剝離等[4]優(yōu)點,在航空發(fā)動機渦輪葉片及燃燒室內(nèi)壁表面等部位的溫度測量方面具有明顯的優(yōu)勢。從20世紀(jì)80年代開始,國內(nèi)外多家研究機構(gòu)致力于研究航空發(fā)動機熱端部件表面溫度測量的薄膜傳感器。美國國家航空航天局的LeiJF等[5]、MartinLC等人[6]、WrbanekJD等人[7]和羅德島大學(xué)的TougasIM等人[8]就NiCr/NiSi,Pt-10%Rh/Pt,CrSi/TaC,Pt/Pd和In2O3/ITO等體系的薄膜熱電偶展開了多年的研究,并已應(yīng)用于發(fā)動機熱端部件表面溫度的測試。國內(nèi),中國航發(fā)四川燃氣渦輪研究院與電子科技大學(xué)合作針對薄膜熱電偶開展了長期的研究,具體材料體系包括NiCr/NiSi(K型)[9],Pt-10%Rh/Pt(S型)[9],Pt-13%Rh/Pt(R型)[10],ITO/Pt[11],ITON/Pt[9],InO/ITO[12]和InON/ITON[13]。目前,針對不同的燃氣溫度范圍,研制了若干種典型的薄膜熱電偶,包括中溫K型(NiCr/NiSi,<600℃)、高溫R型(Pt-13%Rh/Pt,<900℃)、超高溫(ITON/Pt,<1100℃;InON/ITON,>1200℃)等薄膜熱電偶,其使用壽命均大于10h。本文對這4種典型的薄膜熱電偶的制備工藝、靜態(tài)標(biāo)定和熱電性能進行了總結(jié),并利用相關(guān)技術(shù)成功研制了高溫合金部件表面的中溫、高溫、超高溫薄膜熱電偶。靜態(tài)標(biāo)定結(jié)果表明,所有薄膜熱電偶在各自工作溫度范圍內(nèi)均具有良好的線性度。

1實驗部分

1.1薄膜熱電偶的制備

薄膜熱電偶由NiCrAlY過渡層、熱生長Al2O3層、Al2O3絕緣層、熱電功能層(尺寸為63mm×1mm×1μm)和Al2O3保護層構(gòu)成,結(jié)構(gòu)如圖1所示。首先,先后采用丙酮、乙醇和去離子水對Ni基高溫合金基板的表面進行清洗,清洗后置于氮氣氣氛下干燥;再以Ni67Cr22Al10Y1合金為靶材,采用直流磁控濺射在Ni基高溫合金表面制備約15μm厚的NiCrAlY合金過渡層;然后將樣品置于真空熱處理爐內(nèi),在1000℃下真空處理6h,使NiCrAlY合金過渡層中的鋁元素向表面偏析,進而在相同溫度下通入氧氣,高溫氧化處理6h,使薄膜表面氧化形成約1.5μm厚的熱生長Al2O3層;再以純度為99.999%(重量百分比)的Al2O3顆粒為蒸鍍原料,采用電子束蒸發(fā)沉積約12μm厚的Al2O3絕緣層;采用高溫?zé)崽幚頎t,在1000℃的大氣環(huán)境中將樣品退火處理2h;然后,采用掩模圖形化工藝和磁控濺射方法制備得到多種熱電功能層薄膜。其中,制備InON,ITON電極時,濺射氣氛為氮、氬氣氛,制備其余電極濺射氣氛僅為氬氣;采用電子束蒸發(fā)在熱電功能層薄膜表面沉積約3μm厚的Al2O3保護層。所制成的薄膜熱電偶樣品見圖2所示。

1.2薄膜熱電偶的靜態(tài)標(biāo)定

采用靜態(tài)標(biāo)定法對薄膜熱電偶進行標(biāo)定,具體方法見相關(guān)文獻[14]。標(biāo)定時,薄膜熱電偶電極的引腳處作為冷端,暴露在標(biāo)定爐外,采用水冷夾具和循環(huán)冷卻水對引腳進行冷卻。熱端的薄膜熱電偶結(jié)點放置于標(biāo)定爐內(nèi)的恒溫區(qū)。標(biāo)定時,K型、R型、ITON/Pt和InON/ITON薄膜熱電偶的結(jié)點分別置于250~600℃,300~1000℃,300~1100℃,300~1000℃高溫環(huán)境中。以Φ0.1mm的鉑絲作為導(dǎo)線,采用高溫銀漿將鉑絲固定在薄膜熱電偶的引腳處,從而實現(xiàn)信號的輸出。

2結(jié)果與討論

2.1K型薄膜熱電偶

K型薄膜熱電偶在250~600℃溫度范圍內(nèi)進行靜態(tài)標(biāo)定的標(biāo)定結(jié)果如圖3(a)所示。從圖中可以看出,K型薄膜熱電偶2次循環(huán)標(biāo)定的熱電勢輸出曲線基本重合,一致性良好。K型薄膜熱電偶的熱電性能可以按照式(1)所示的函數(shù)進行二次多項式擬合。由于K型熱電偶在熱端與冷端溫度差為0℃時應(yīng)當(dāng)沒有熱電勢輸出,因此設(shè)定二次多項式擬合的邊界條件C為0E=A(ΔT)2+BΔT+C(1)式中E為輸出熱電勢,ΔT為冷熱端溫差,A,B和C為系數(shù)。C=0mV時二次多項式擬合得到的結(jié)果為,第1次標(biāo)定時A,B分別為-1.30×10-5mV/℃2,0.4424mV/℃,第2次標(biāo)定時A,B分別為-1.28×10-5mV/℃2,0.4395mV/℃。從擬合結(jié)果中可以發(fā)現(xiàn),兩次循環(huán)標(biāo)定的熱電勢輸出曲線經(jīng)擬合分析后得到K型薄膜熱電偶的塞貝克系數(shù)分別為38.38μV/℃和38.14μV/℃,平均塞貝克系數(shù)為38.26μV/℃,兩次標(biāo)定結(jié)果的塞貝克系數(shù)相差很小,且平均塞貝克系數(shù)較大。為了更直觀描述薄膜熱電偶的熱電特性,描繪了靈敏度系數(shù)K值[9]隨熱端溫度變化的曲線,結(jié)果如圖3(b)所示,可以看出,隨著熱端溫度的升高K值呈現(xiàn)下降的趨勢,在熱端溫度不高于380℃時,K型薄膜熱電偶的K值可以保持在0.9以上,超過380℃后,也能達到0.8以上。

2.2R型薄膜熱電偶

R型薄膜熱電偶在300~1000℃溫度范圍內(nèi)進行靜態(tài)標(biāo)定的標(biāo)定結(jié)果如圖4(a)所示。可以看出,R型薄膜熱電偶的熱電勢輸出經(jīng)過第1次標(biāo)定后更加穩(wěn)定。在熱端溫度為300~900℃即冷熱端溫差為230~750℃之間,第2和第3次標(biāo)定的熱電勢輸出曲線的線性度和重復(fù)性均較好。R型薄膜熱電偶的熱電性能可以按照式(1)進行二次多項式擬合。C=0mV時,二次多項式擬合得到的結(jié)果為,第1次標(biāo)定,A,B分別為4.69×10-6mV/℃2,0.00605mV/℃;第2次標(biāo)定A,B分別為4.20×10-6/℃2,0.00603mV/℃;第3次標(biāo)定A,B分別為4.13×10-6mV/℃2,0.00592mV/℃。從擬合結(jié)果中可以發(fā)現(xiàn),隨著標(biāo)定次數(shù)的增加,R型薄膜熱電偶的塞貝克系數(shù)逐漸降低,分別是11.13,10.44和10.23μV/℃,平均塞貝克系數(shù)為10.60μV/℃。這主要是由于標(biāo)定過程也是熱處理的過程,隨著標(biāo)定熱處理的進行,PtRh薄膜中Rh的氧化逐漸加深,使得PtRh合金表面中Rh的比例下降,從而導(dǎo)致塞貝克系數(shù)降低[10]。另外,二次項系數(shù)隨標(biāo)定次數(shù)的增加而降低,這說明隨著標(biāo)定熱處理的進行,R型薄膜熱電偶的線性度逐漸提升,并趨于穩(wěn)定。從圖4(b)可以看到,隨著熱端溫度的增大即冷熱端溫差的增大R型薄膜熱電偶的靈敏度K值變化非常小,始終在0.8~0.9之間。而且經(jīng)過第1次標(biāo)定熱處理后,后續(xù)標(biāo)定結(jié)果間K值差異很小。

2.3ITON/Pt薄膜熱電偶

ITON/Pt薄膜熱電偶在300~1100℃溫度范圍內(nèi)進行靜態(tài)標(biāo)定的標(biāo)定結(jié)果如圖5(a)所示。可以看出,經(jīng)過第1次標(biāo)定后熱電勢輸出曲線的重復(fù)性較好,說明ITON/Pt薄膜熱電偶經(jīng)過一次標(biāo)定后的熱電性能更加穩(wěn)定。第1次標(biāo)定相當(dāng)于對ITON薄膜進行了熱處理,使ITON薄膜中的缺陷減少,從而改善了薄膜熱電偶的熱電性能。根據(jù)Kubakaddi模型[15],ITON薄膜的塞貝克系數(shù)會隨著冷熱端溫差的增大先增大再減小,而Pt薄膜的塞貝克系數(shù)近似線性變化。作為半導(dǎo)體材料,ITON的塞貝克系數(shù)要比Pt大2個數(shù)量級,因此,ITON/Pt薄膜熱電偶的塞貝克系數(shù)隨著冷熱端溫差的增大會先增大再減小,以致于熱電勢輸出曲線呈現(xiàn)“S”型變化,如圖5(b)所示。ITON/Pt薄膜熱電偶的熱電性能可以按照式(2)所示的函數(shù)進行三次多項式擬合E=A(ΔT)3+B(ΔT)2+CΔT+D(2)式中E為輸出熱電勢;ΔT為冷熱端溫差;A,B,C和D為系數(shù)。三次多項式擬合得到的結(jié)果如表1所示。可以發(fā)現(xiàn),ITON/Pt薄膜熱電偶的后四次標(biāo)定結(jié)果的平均塞貝克系數(shù)為78.60μV/℃。

2.4InON/ITON薄膜熱電偶

InON/ITON薄膜熱電偶在300~1000℃溫度范圍內(nèi)進行靜態(tài)標(biāo)定的標(biāo)定結(jié)果見圖6(a)所示。從圖中可知,In2O3/ITO薄膜熱電偶經(jīng)過第1次靜態(tài)標(biāo)定后,其熱電勢輸出曲線的重復(fù)性和線性度較好,說明其熱電性能較穩(wěn)定。由于InON和ITON薄膜中存在缺陷,經(jīng)過第1次靜態(tài)標(biāo)定循環(huán)時,高溫?zé)崽幚硎贡∧?nèi)部的缺陷減少,從而使InON/ITON薄膜熱電偶的熱電性能更加穩(wěn)定。從圖6(b)中可知,第1次標(biāo)定結(jié)果薄膜熱電偶的塞貝克系數(shù)起伏變化較大,以致于第1次標(biāo)定的熱電勢輸出曲線呈現(xiàn)“S”型變化。而后3次標(biāo)定,InON薄膜和ITON薄膜的穩(wěn)定性更高,InON/ITON薄膜熱電偶的塞貝克系數(shù)起伏變化較小,因此熱電勢輸出曲線呈現(xiàn)出近線性變化。InON/ITON薄膜熱電偶的熱電性能可以按照式(2)所示的函數(shù)進行三次多項式擬合。三次多項式擬合得到的結(jié)果如表2所示。其中,三次和二次多項式的系數(shù)較小,說明熱電勢輸出曲線有較好的線性度。由擬合后得到4次標(biāo)定結(jié)果的塞貝克系數(shù)知3次標(biāo)定結(jié)果的塞貝克系數(shù)變化很小,說明薄膜熱電偶的熱電性能在經(jīng)歷多個高溫循環(huán)后仍然保持了較好的穩(wěn)定性。后3次標(biāo)定結(jié)果的平均賽貝克系數(shù)為123.10μV/℃。

3結(jié)論

經(jīng)過中國航發(fā)四川燃氣渦輪研究院與電子科技大學(xué)長期合作,成功研制了高溫合金部件表面的中溫、高溫、超高溫薄膜熱電偶。靜態(tài)標(biāo)定結(jié)果表明,所有薄膜熱電偶在各自工作溫度范圍內(nèi)均具有良好的線性度,同時在惡劣環(huán)境下具有很好的穩(wěn)定性和重復(fù)性,使用壽命達到10h以上。薄膜熱電偶的成功研制,將為航空發(fā)動機熱端部件表面溫度測量提供先進測試手段,為航空發(fā)動機的設(shè)計和實驗驗證提供有力的技術(shù)支撐。同時該項成果還可以廣泛應(yīng)用于其他高溫部件的表面溫度測試,具有廣闊的應(yīng)用前景。

作者:楊柯 蔣洪川 趙曉輝 單位:中國航發(fā)四川燃氣渦輪研究院

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